‘EUV(Extreme Ultra Violet-극자외선) 생산라인 구축으로 글로벌 첨단 반도체 시장에 대응한다’

삼성전자는 2월23일 화성캠퍼스에서 ‘삼성전자 화성 EUV 라인 기공식’을 갖고 본격적으로 라인 건설에 착수했다.

► 삼성전자 화성캠퍼스에 EUV(극자외선) 반도체 신규라인이 건립된다.

이날 첫삽을 뜬 화성 EUV라인은 2019년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 가동에 나설 예정이다.

신규라인은 미세공정 한계극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet-극자외선) 장비가 도입되면서 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십 유지에 핵심역할을 선도할 것으로 보인다.

반도체 산업은 그동안 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하면서 반도체 성능과 전력효율을 향상시켜 왔다.

그러나 최근 한자리수 나노(nano-10억분의 1) 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해 기존 ArF(불화아르곤) 광원 보다 파장이 짧은 EUV 장비 도입이 불가피한 실정이다.

따라서 EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체 성능과 전력효율 향상은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어 생산성을 획기적으로 높일 수 있다.

이에 삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일/서버/네트워크/HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이다.

화성 EUV라인 초기 투자규모는 건설비용을 포함, 2020년까지 60억 달러 수준으로 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가투자를 추진할 계획이다.

앞서 2000년 삼성전자 화성캠퍼스 개발로 시작된 삼성전자와 화성시의 동반성장은 EUV 신규라인 건설에 따라 더욱 확대될 전망이다.

시는 첨단 반도체산업의 메카로서 입지를 확고히 다지게 됐다.

이날 기공식은 권칠승 국회의원(화성시병), 황성태 부시장, 김기남 삼성전자 DS부문장 사장, 정은승 파운드리 사업부장 사장, 주민 등 300명이 참석했다.

삼성전자 김기남 사장은 기념사를 통해 “화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥(용인)·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터(Cluster)의 중심이 될 것이다” 며 “삼성전자는 산·학·연 및 관련 업계와 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것”이라고 밝혔다.

한편 삼성전자는 파운드리 7나노 공정부터 EUV 기술을 적용하기 위한 연구개발을 지속적으로 수행하면서 글로벌 고객과도 7나노 EUV 공정을 활용한 차세대 반도체 칩(chip) 개발에 협력하고 있다.